Auf der Bilanzpressekonferenz der ELMOS Semiconductor AG präsentierte der Vorstand heute den Jahresabschluss für das vergangene Geschäftsjahr 2003. "Wir blicken auf ein erfolgreiches Jahr 2003 zurück", resümiert Knut Hinrichs, Vorstandsvorsitzender der ELMOS Semiconductor AG. Der Gesamtumsatz konnte um 11 Prozent auf 121,4 Mio. EUR gesteigert werden (Vj. 109,7 Mio. EUR) - währungsbereinigt sogar um 13 Prozent. Der Jahresüberschuss erhöhte sich um 13 Prozent auf 10,0 Mio. EUR (Vj. 8,9 Mio. EUR). Hierin enthalten sind einmalige Sondereffekte in Höhe von rund 1 Mio. EUR, die im letzten Quartal aufgrund von Restrukturierungsmaßnahmen anfielen. Das Ergebnis vor Steuern und Zinsen (EBIT) kletterte um 9 Prozent von 19,3 Mio. EUR in 2002 auf 21,1 Mio. EUR in 2003. Das Ergebnis vor Steuern (EBT) betrug 17,3 Mio. EUR (Vj: 15,7 Mio. EUR) und stieg damit um 10 Prozent an. Das Ergebnis pro Aktie erhöhte sich auf 0,52 Euro nach 0,46 Euro in 2002.
"Wir schauen optimistisch in die Zukunft. Im Kernbereich Halbleiter sehen wir eine sehr positive Entwicklung", sagte Hinrichs. Da die Eigenkapitalquote des Konzerns von 54 Prozent in 2002 auf 61 Prozent in 2003 angestiegen ist, haben Vorstand und Aufsichtsrat beschlossen, eine Dividende von 0,13 Euro für 2003 der Hauptversammlung vorzuschlagen. "Nach zwei Jahren Konsolidierung können wir unsere Aktionäre wieder teilhaben lassen an der ertragsstarken Strategie der ELMOS", so Hinrichs. Die Investitionen lagen mit 25,3 Mio. EUR deutlich unter dem Vorjahr (Vj. 34,1 Mio. EUR) und betrugen im Halbleiterbereich 17,5 Mio. EUR (Vj. 20,8 Mio. EUR), Mikromechanik 3,9 Mio. EUR (Vj. 10,8 Mio. EUR) und bei Assembly 3,9 Mio. EUR (Vj. 2,5 Mio. EUR).
"Mit moderaten Zusatzinvestitionen kann die ELMOS-Gruppe das Wachstum realisieren", so Hinrichs. Die beachtliche Zahl von neuen Projekten, die im Zeitraum von 2004 bis 2007 in Serienproduktion gehen, werden ein jährliches Umsatzwachstum von mehr als 20 Prozent erzeugen. Daher wird für den Kapazitätsbedarf ab 2006 eine Kooperation mit dem Fraunhofer-Institut IMS in Duisburg angestrebt. Die dortige Wafer-Linie soll ab 2006 ausgebaut und genutzt werden. Für die spätere Kapazitätserweiterung verfügt ELMOS über geeignete Flächen am Standort Dortmund.
