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Aixtron und IHP unterzeichnen langfristigen R&D-Kooperationsvertrag - Forschungsvorhaben erstreckt sich über drei Jahre
AIXTRON hat mit dem Institut für Halbleiterphysik (IHP) in Frankfurt/Oder einen Vertrag über eine langfristige Forschungskooperation im Bereich der Entwicklung neuer Materialien geschlossen.

Das gemeinsame Forschungsvorhaben erstreckt sich über drei Jahre und konzentriert sich dabei auf Anwendungen neuartiger Kondensatormaterialien in integrierten Halbleiterbauelementen wie z.B. DRAMs (Dynamic Random Access Memories = Halbleiterspeicher mit direktem Zugriff), Embedded DRAMs (Pufferspeicher), Entkoppelkondensatoren und Hochfrequenz-Bauelementen.

Die gemeinsame Entwicklung der Prozesse und Materialien werden auf einer AIXTRON Tricent® AVD® Anlage (Atomic Vapor Deposition) durchgeführt. Zu diesem Zweck hat das IHP vor kurzem eine Tricent® Anlage mit zwei Beschichtungskammern für 200 mm wie auch 300 mm große Substrate bestellt. Die Installation des Systems im Reinraum vom IHP ist für Mitte dieses Jahres vorgesehen. Im Rahmen der Kooperationsvereinbarung gewährt das IHP AIXTRON Lizenzen und ermöglicht AIXTRON somit die Nutzung ausgewählter Patente, die im Zusammenhang mit neuen Hoch-Epsilon Dielektrika (Hoch-isolierende dünne Schichten) vom IHP angemeldet wurden.

Der Schwerpunkt der Arbeiten liegt zu Beginn auf der Prozessentwicklung des neuen Materialsystems Praseodymium Oxid (Pr
2O3), das seit kurzem als vielversprechender Nachfolger für die auf Aluminium Oxid (Al2O3) oder Hafnium Oxid (HfO2) basierenden Dielektrika gilt. Das IHP verfügt bereits über fundierte Kenntnisse in der Herstellung und Anwendung dieses Materials, so dass für die Prozessentwicklung bereits eine gute Basis vorhanden ist. Zusammen mit AIXTRON wird das IHP verschiedene andere, neuartige dielektrische und auch metallische Schichten erforschen, die möglicherweise in zukünftige Halbleiterbauelemente integriert werden können.

Tim McEntee, Vorstand der AIXTRON AG für die Semiconductor Equipment Unit, erklärte: "Ich begrüße diese wichtige Kooperationsvereinbarung zwischen beiden Organisationen und bin überzeugt, dass sie für uns wie auch für das IHP strategisch von großem Nutzen sein wird. Das IHP verfügt über ein einzigartiges Team von Spezialisten und einen gut eingerichteten Reinraum mit hervorragender Infrastruktur. Wir werden bereits in diesem Jahr die positiven Impulse dieser Zusammenarbeit spüren."

Prof. Dr. Wolfgang Mehr, Direktor vom IHP, fügte folgendes hinzu: "Der Markt ist bereit für innovative, neuartige Materialien zur Abscheidung von Dünnfilmen. Zusammen mit AIXTRON werden wir diese Chance nutzen."


Veröffentlichungsdatum: 08.03.2005 - 11:22
Redakteur: rpu
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